ZEMAX 成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 線上培訓(xùn)

培訓(xùn)課程一：ZEMAX 成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 線上培訓(xùn)

課程大綱

1 Zemax OpticStudio簡(jiǎn)介

2 數(shù)據(jù)庫(kù)；鏡頭庫(kù)，材料庫(kù)

3 玻璃材料以及如何定義新材料

4 像差簡(jiǎn)介以及OpticStudio中的像差圖表

5 優(yōu)化

6 局部/全局/錘形優(yōu)化/優(yōu)化操作數(shù)

7 優(yōu)化實(shí)例：?jiǎn)瓮哥R/雙透鏡

8 熱分析

9 二元面及衍射光學(xué)表面

10 鬼像及雜散光分析

11 調(diào)制傳遞函數(shù)和成像質(zhì)量評(píng)估

12 雙高斯鏡頭的設(shè)計(jì)與優(yōu)化

13 OpticStudio中的坐標(biāo)系統(tǒng)

14 坐標(biāo)間端面及其使用技巧

15 序列模式中餓棱鏡模型

16 實(shí)例：掃描振鏡

17 實(shí)例：科勒照明

18 轉(zhuǎn)換為非序列模式

19 黑盒系統(tǒng)

20 OpticStudio中的優(yōu)化工具

21 尋找最佳非球面/轉(zhuǎn)換非球面類(lèi)型

22 公差分析簡(jiǎn)介

23 制造誤差和裝配誤差

24 公差評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)

25 靈敏度/反靈敏度/蒙特卡羅分析

26 公差補(bǔ)償器

27 公差操作數(shù)

28 公差示例：對(duì)單透鏡/庫(kù)克三片鏡進(jìn)行公差分析

29 公差報(bào)告

30 鏡片/CAD制圖

培訓(xùn)課程二：ZEMAX 照明設(shè)計(jì)與雜散光分析

課程大綱

01 非序列光線追跡

02 光源物體

03 探測(cè)器物體

04 分辨率 VS 噪聲

05 照明單位 & 幾何量

06 光源建模

07 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型

08 光源建模：Source Radial

09 光原建模：內(nèi)置幾何模型

10 光原建模：使用測(cè)量數(shù)據(jù)

11 生成 Source Model 光線

12 模擬光源光譜

13 色度學(xué)

14 建模彩色光源

15 測(cè)量顏色數(shù)據(jù)

16 照明系統(tǒng)

17 拋物面反射器

18 Sobol 采樣

19 BMP 位圖優(yōu)化

20 復(fù)合拋物面聚光器 CPC

21 背光模組 物體陣列 & 光源陣列

22 復(fù)雜幾何體

23 嵌套規(guī)則

24 原生布爾物體和布爾 CAD 物體

25 CAD 導(dǎo)入 & 導(dǎo)出

26 使用混合模式

27 偏振光線追跡

28 物體屬性：面分組 & 屬性

29 光線分裂

30 X-Cube 棱鏡

31 簡(jiǎn)單光線分裂

32 非序列設(shè)置

33 故障排查：光線追跡中止條件

34 故障排查：幾何錯(cuò)誤

35 “ Inside of ” 標(biāo)識(shí)

36 故障排查：膠合距離

37 故障排查：面元物體 & 繪圖精度

38 序列模式轉(zhuǎn)換成非序列模式

39 雜散光分析介紹

40 散射

41 雜散光分析工具

42 Maksutov 雜散光分析

43 非序列鬼像分析

44 非序列系統(tǒng)公差分析

課程信息

費(fèi)用：費(fèi)用均為 1680元/人

活動(dòng)優(yōu)惠：同時(shí)報(bào)名參加享九折優(yōu)惠

培訓(xùn)形式：線上培訓(xùn)

課程日期：2020 年 10 月 24 日 - 27 日

課程時(shí)間： 9 ：00 - 17 ： 00

主辦單位：武漢宇熠科技有限公司

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