光學設計必學！Zemax 成像設計課程 招生中
培訓大綱
01 OpticStudio 軟件功能介紹;
02 材料庫、鏡頭庫介紹；
03 如何定義新材料；
04 如何使用鏡頭庫；
05 像差理論介紹；
06 Zemax 里像差分析圖譜；
07 優(yōu)化;
08 局部優(yōu)化
09 全局優(yōu)化；
10 錘形優(yōu)化；
11 優(yōu)化函數架構技巧；
12 單透鏡優(yōu)化實例;
13 雙膠合優(yōu)化實例；
14 熱分析及衍射光學元件的使用;
15 實例設計及分析；
16 MTF
17 雙高斯鏡頭設計及優(yōu)化；
18 像質評價與圖像模擬；
19 坐標變換；
20 坐標斷點面的使用技巧;
21 序列模式棱鏡建模；
22 掃描反射鏡設計實例；
23 柯勒照明綜合設計實例；
24 投影系統(tǒng)設計;
25 集光系統(tǒng)設計；
26 暗盒系統(tǒng)介紹；
27 分析工具應用；
28 尋找最佳非球面;
29 曲率套樣板；
30 鏡頭匹配工具；
31 Zemax 公差分析功能介紹;
32 加工誤差、裝配誤差；
33 靈敏度分析;
34 反靈敏度分析;
35 蒙特卡羅分析;
36 公差評價標準；
37 公差操作數；
38 補償變量的使用；
39 單透鏡公差分析；
40 庫克鏡頭公差分析；
41 分析報告查看說明；
42 公差腳本的使用；
43 鏡頭出圖、CAD 出圖；
44 小結及答疑
培訓信息
主辦單位：武漢宇熠科技有限公司
培訓主題：Zemax 成像設計
培訓形式：線上培訓
培訓講師：武漢宇熠科技有限公司光學高級工程師
培訓時間：2023 年 3 月 9 ~ 10 日
（ 9：00-17：00 ，為期2天）
培訓費用：￥ 1980元 / 人
報名方式
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聯(lián)系方式
電話：027-87878386
郵箱：market@ueotek.com
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