Zemax高級成像設計培訓課程
課程介紹:
本課程為 2 天中高階成像設計課程,課程主要覆蓋設計加工、熱分析、衍射和MTF分析, 像質分析、鬼像、 全局優(yōu)化、選型、局部優(yōu)化,及光學設計過程、激光擴束鏡設計案例等。
課表安排:
上課時間 | 第1天 | 第2天 |
9:00- 10:30 | 光學設計過程;
激光擴束鏡設計案例;
采樣 & 參考點; 評價函數(shù); |
衍射和MTF分析, 像質分析;
夫瑯禾費衍射; |
10:30- 10:45 | 茶歇 | |
10:45- 12:00 | 局部優(yōu)化;
定義評價函數(shù);
操作數(shù); 評價函數(shù)中的設計原則; |
計算MTF;
雙高斯設計; 惠更斯衍射; 圖像模擬; |
12:00- 13:30 | 午餐 | |
13:30- 15:00 | 全局優(yōu)化;
選型;
設計加工; 熱分析; |
光源的相干性與成像 偏振光線追跡& 薄膜設計; |
15:00- 15:15 | 茶歇 | |
15:15- 17:00 | 衍射光學; 衍射透鏡中的熱補償; |
雙折射 鬼像 |